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1. 基材選型與預(yù)處理

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在選用304/316L不銹鋼（厚度0.03-1.0mm）或銅合金板材，通過(guò)堿性脫脂（NaOH溶液）與酸性活化（稀硝酸）去除表面氧化層及油污，確保光刻膠附著力。

2. 光刻膠涂覆與圖形轉(zhuǎn)印

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在噴涂/滾涂正性光刻膠（厚度5-20μm），采用UV曝光機(jī)（波長(zhǎng)365nm）通過(guò)掩膜版精準(zhǔn)轉(zhuǎn)印圖案，顯影后形成抗蝕刻保護(hù)層，支持微米級(jí)線寬（±0.005mm）及孔徑控制。

3. 化學(xué)蝕刻成型

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在浸入三氯化鐵或酸性蝕刻液（濃度1.2-1.5g/cm3），動(dòng)態(tài)調(diào)控溫度（45-50℃）與噴淋壓力（0.2-0.4MPa），腐蝕速率約0.05-0.15mm/min，形成預(yù)設(shè)孔陣結(jié)構(gòu)。

4. 后處理與表面強(qiáng)化

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在電解去膠（NaClO溶液）后實(shí)施電解拋光，表面粗糙度Ra≤0.1μm，增強(qiáng)耐腐蝕性（鹽霧測(cè)試≥480h）；可選電鍍鎳/鉻層（厚度2-5μm）提升耐磨性。

5. 質(zhì)量檢測(cè)與包裝

蝕刻網(wǎng)生產(chǎn)廠家在三次元測(cè)量?jī)x校驗(yàn)孔徑公差（±0.01mm）、透光率及平整度（波動(dòng)±0.02mm），激光檢孔系統(tǒng)剔除殘次品，真空封裝防氧化，適應(yīng)食品級(jí)（FDA認(rèn)證）或工業(yè)級(jí)需求。

技術(shù)核心：光刻圖形化精度與動(dòng)態(tài)蝕刻參數(shù)優(yōu)化，保障孔陣均勻性（CV值＜0.5%）及邊緣垂直度（89°-90°），適配半導(dǎo)體過(guò)濾、高精度傳感器等場(chǎng)景。